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ＪＸ日鉱日石金属株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第215位 199件
（
2010年：第1800位 14件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第185位 194件
（2010年：第841位 28件）
（ランキング更新日：2025年2月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＪＸ日鉱日石金属株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4696070 | エピタキシャル結晶の成長方法 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4686659 | 銅転炉の操業方法 | 2011年 5月25日 | |
| 特許 4686658 | プレス打抜き性に優れた電子部品用素材 | 2011年 5月25日 | |
| 特許 4683669 | 強度、導電率及び曲げ加工性に優れたチタン銅及びその製造方法 | 2011年 5月18日 | |
| 特許 4683646 | プリント配線基板用銅又は銅合金箔 | 2011年 5月18日 | |
| 特許 4685023 | 高純度ＺｒＢ２粉末及びその製造方法 | 2011年 5月18日 | |
| 特許 4685059 | マンガン合金スパッタリングターゲット | 2011年 5月18日 | |
| 特許 4685177 | 相変化型光ディスク保護膜形成用スパッタリングターゲット及び該ターゲットを使用して相変化型光ディスク保護膜を形成した光記録媒体 | 2011年 5月18日 | |
| 特許 4683640 | プリント配線基板用銅箔及びそれを用いたプリント配線基板 | 2011年 5月18日 | |
| 特許 4682271 | プリント配線板用銅箔 | 2011年 5月11日 | |
| 特許 4680493 | 無電解銅めっき液およびそれを使用する無電解銅めっき方法 | 2011年 5月11日 | |
| 特許 4680325 | 高純度銅又は高純度銅合金スパッタリングターゲット、同スパッタリングターゲットの製造方法及び高純度銅又は高純度銅合金スパッタ膜 | 2011年 5月11日 | |
| 特許 4676430 | ウェハ保管容器 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4678986 | 電極板搬送装置 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4677505 | 電子材料用Ｃｕ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ｃｏ系銅合金及びその製造方法 | 2011年 4月27日 |
194 件中 121-135 件を表示
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4696070 4686659 4686658 4683669 4683646 4685023 4685059 4685177 4683640 4682271 4680493 4680325 4676430 4678986 4677505
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