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株式会社フジミインコーポレーテッド
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第802位 40件
（
2012年：第1343位 19件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第2459位 8件
（
2012年：第1540位 16件）
（ランキング更新日：2024年11月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社フジミインコーポレーテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-84876 | 研磨用組成物 | 2013年 5月 9日 | |
| 特開 2013-80751 | 研磨用組成物 | 2013年 5月 2日 | |
| 特開 2013-80752 | 研磨用組成物 | 2013年 5月 2日 | |
| 特開 2013-65873 | ＬＰＤ低減剤及びそれを用いたシリコンウエハの欠陥低減方法 | 2013年 4月11日 | |
| 特開 2013-48291 | シリコンウエハの製造方法 | 2013年 3月 7日 | |
| 特開 2013-34026 | 研磨用組成物及びそれを用いた半導体ウエハの製造方法 | 2013年 2月14日 | |
| 特開 2013-21291 | 研磨用組成物 | 2013年 1月31日 | |
| 特開 2013-21292 | 研磨用組成物 | 2013年 1月31日 | |
| 特開 2013-21343 | ＬＰＤ低減剤、シリコンウエハの欠陥低減方法、及びシリコンウエハの製造方法 | 2013年 1月31日 | |
| 特開 2013-16832 | 研磨用組成物、ＬＰＤ低減剤及びそれを用いたＬＰＤ低減方法 | 2013年 1月24日 |
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2013-84876 2013-80751 2013-80752 2013-65873 2013-48291 2013-34026 2013-21291 2013-21292 2013-21343 2013-16832
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