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株式会社フジミインコーポレーテッド
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第518位 63件
（
2019年：第452位 81件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第488位 48件
（
2019年：第729位 30件）
（ランキング更新日：2026年3月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社フジミインコーポレーテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 再表 2019-87818 | 研磨用組成物およびその製造方法 | 2020年12月17日 | |
| 再表 2019-116833 | 研磨用組成物および研磨方法 | 2020年12月 3日 | |
| 再表 2019-66014 | 研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、および研磨方法 | 2020年11月26日 | |
| 特開 2020-189787 | シリカゾルの製造方法 | 2020年11月26日 | |
| 再表 2019-49610 | 研磨用組成物およびシリコン基板研磨方法 | 2020年11月19日 | |
| 再表 2019-65357 | 研磨用組成物 | 2020年11月19日 | |
| 再表 2019-65994 | 研磨用組成物 | 2020年11月 5日 | |
| 特開 2020-164350 | シリカゾルの製造方法 | 2020年10月 8日 | |
| 特開 2020-164351 | シリカゾルの製造方法 | 2020年10月 8日 | |
| 特開 2020-164658 | 研磨用組成物 | 2020年10月 8日 | |
| 特開 2020-164662 | 研磨用組成物 | 2020年10月 8日 | |
| 特開 2020-164701 | 研磨用組成物および磁気ディスク基板製造方法 | 2020年10月 8日 | |
| 特開 2020-164780 | 研磨用組成物 | 2020年10月 8日 | |
| 特開 2020-164816 | ＣＭＰ組成物およびこれを用いた方法 | 2020年10月 8日 | |
| 特開 2020-166913 | 磁気ディスク基板の製造方法、研磨用組成物および研磨方法 | 2020年10月 8日 |
64 件中 1-15 件を表示
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2019-87818 2019-116833 2019-66014 2020-189787 2019-49610 2019-65357 2019-65994 2020-164350 2020-164351 2020-164658 2020-164662 2020-164701 2020-164780 2020-164816 2020-166913
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