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株式会社フジミインコーポレーテッド
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第612位 52件
（
2013年：第802位 40件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第1883位 12件
（2013年：第2459位 8件）
（ランキング更新日：2026年2月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社フジミインコーポレーテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2014-240511 | 溶射皮膜の製造方法および溶射用材料 | 2014年12月25日 | |
| 特開 2014-225517 | 研磨用組成物 | 2014年12月 4日 | |
| 特開 2014-210322 | 磁気ディスク基板用研磨組成物キット | 2014年11月13日 | |
| 特開 2014-187348 | 研磨用組成物 | 2014年10月 2日 | |
| 特開 2014-165318 | 研磨用組成物 | 2014年 9月 8日 | |
| 特開 2014-156651 | 溶射皮膜と皮膜付金属部材 | 2014年 8月28日 | |
| 特開 2014-151424 | 研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨物製造方法 | 2014年 8月25日 | |
| 特開 2014-139258 | 基板濡れ性促進組成物、並びにこれを含む研磨用組成物およびこれを用いた基板の製造方法 | 2014年 7月31日 | |
| 再表 2012-161029 | 再生フィルターの製造方法 | 2014年 7月31日 | |
| 再表 2012-141145 | 基板のエッジ研磨用組成物及びそれを用いた基板のエッジ研磨方法 | 2014年 7月28日 | |
| 再表 2012-133591 | 研磨用組成物並びにそれを用いた研磨方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2014年 7月28日 | 共同出願 |
| 特開 2014-138086 | 研磨方法 | 2014年 7月28日 | |
| 特開 2014-130944 | 研磨用組成物 | 2014年 7月10日 | |
| 再表 2012-115020 | 研磨用組成物 | 2014年 7月 7日 | |
| 特開 2014-118490 | セルロース誘導体組成物、当該セルロース誘導体組成物を用いた研磨用組成物、当該研磨用組成物の製造方法、および当該研磨用組成物を用いた基板の製造方法 | 2014年 6月30日 |
52 件中 1-15 件を表示
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2014-240511 2014-225517 2014-210322 2014-187348 2014-165318 2014-156651 2014-151424 2014-139258 2012-161029 2012-141145 2012-133591 2014-138086 2014-130944 2012-115020 2014-118490
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