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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第542位 61件 (2020年:第518位 63件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第536位 44件 (2020年:第488位 48件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2021-195428 | ヒドロキシエチルセルロース溶液の製造方法、該製造方法により製造されたヒドロキシエチルセルロース溶液、および該ヒドロキシエチルセルロース溶液を含む半導体用濡れ剤ならびに研磨用組成物 | 2021年12月27日 | |
特開 2021-195501 | 研磨用組成物の濃縮液およびこれを用いた研磨方法 | 2021年12月27日 | |
特開 2021-192449 | シリコン基板の研磨方法および研磨用組成物セット | 2021年12月16日 | |
特開 2021-187693 | 硬化助剤溶液、自硬性材料および硬化体、ならびにこれらの製造方法 | 2021年12月13日 | |
特開 2021-188020 | アニオン変性コロイダルシリカの製造方法 | 2021年12月13日 | |
再表 2020-162144 | 研磨用組成物 | 2021年12月 9日 | |
再表 2020-158332 | リン酸チタン粉体、化粧料用白色顔料 | 2021年11月25日 | |
再表 2020-122191 | 研磨用組成物及び合成樹脂研磨方法 | 2021年10月21日 | |
特開 2021-161221 | 研磨用組成物 | 2021年10月11日 | |
特開 2021-161385 | 研磨用組成物 | 2021年10月11日 | |
特開 2021-163507 | 研磨用組成物、基板の製造方法および研磨方法 | 2021年10月11日 | |
特開 2021-163508 | 研磨用組成物および磁気ディスク基板の製造方法 | 2021年10月11日 | |
特開 2021-163957 | コロイドシリカ粒子混合物をベースとした研磨組成物 | 2021年10月11日 | |
特開 2021-155699 | 研磨用組成物、その製造方法、研磨方法および半導体基板の製造方法 | 2021年10月 7日 | |
特開 2021-158278 | 研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、研磨方法および半導体基板の製造方法 | 2021年10月 7日 |
61 件中 1-15 件を表示
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2021-195428 2021-195501 2021-192449 2021-187693 2021-188020 2020-162144 2020-158332 2020-122191 2021-161221 2021-161385 2021-163507 2021-163508 2021-163957 2021-155699 2021-158278
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11月22日(金) -
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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