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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第112位 434件
(2012年:第135位 339件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第104位 384件
(2012年:第106位 389件)
(ランキング更新日:2025年5月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2013-112573 | 多孔質シリカ前駆体塗布液の作製方法 | 2013年 6月10日 | |
特開 2013-112894 | 真空蒸着装置、電子銃及び真空蒸着方法 | 2013年 6月10日 | |
特開 2013-113429 | 支持装置 | 2013年 6月10日 | |
特開 2013-115012 | 荷電粒子引出照射機構 | 2013年 6月10日 | |
再表 2011-96338 | 太陽電池用透明導電膜付き基板、太陽電池及びそれらの製造方法 | 2013年 6月10日 | 共同出願 |
再表 2011-93363 | 記憶素子及び記憶方法 | 2013年 6月 6日 | |
特開 2013-110066 | 色素増感型太陽電池の製造装置及び色素増感型太陽電池の製造方法 | 2013年 6月 6日 | |
再表 2011-93258 | ドライエッチング方法 | 2013年 6月 6日 | |
特開 2013-107609 | 電動式ウォータージェット推進機 | 2013年 6月 6日 | 共同出願 |
特開 2013-107822 | 水素ガス発生方法及び水素ガス生成材 | 2013年 6月 6日 | |
特開 2013-110142 | 絶縁膜形成方法及び絶縁膜形成装置 | 2013年 6月 6日 | |
特開 2013-110302 | プラズマ処理装置 | 2013年 6月 6日 | |
特開 2013-105887 | 結晶太陽電池の製造方法 | 2013年 5月30日 | |
特開 2013-105832 | 薄膜製造方法および薄膜製造装置 | 2013年 5月30日 | |
特開 2013-105949 | 表面波プラズマ処理装置 | 2013年 5月30日 |
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2013-112573 2013-112894 2013-113429 2013-115012 2011-96338 2011-93363 2013-110066 2011-93258 2013-107609 2013-107822 2013-110142 2013-110302 2013-105887 2013-105832 2013-105949
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6月4日(水) -
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6月10日(火) -
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6月11日(水) -
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