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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第135位 339件 (2011年:第167位 266件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第106位 389件 (2011年:第133位 277件)
(ランキング更新日:2024年12月13日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
再表 2011-7834 | 成膜装置及び成膜方法 | 2012年12月27日 | |
再表 2011-7832 | 成膜装置 | 2012年12月27日 | |
再表 2011-7830 | 成膜装置 | 2012年12月27日 | |
再表 2011-7652 | 減圧システム及び真空処理装置 | 2012年12月27日 | |
特開 2012-256894 | 支持部材およびキャリアと支持方法 | 2012年12月27日 | |
再表 2011-7831 | 成膜装置 | 2012年12月27日 | |
特開 2012-256707 | マスク形成方法 | 2012年12月27日 | |
再表 2011-7580 | 基板処理方法 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-251623 | スライド弁 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-253209 | ドライエッチング装置及びドライエッチング方法 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-251193 | 成膜方法及び成膜装置 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-251624 | スライド弁 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-251119 | ポーラスシリカ前駆体組成物及びその作製方法、ポーラスシリカ膜及びその作製方法、並びに半導体素子 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-251213 | 成膜装置 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-246506 | 移動装置 | 2012年12月13日 |
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2011-7834 2011-7832 2011-7830 2011-7652 2012-256894 2011-7831 2012-256707 2011-7580 2012-251623 2012-253209 2012-251193 2012-251624 2012-251119 2012-251213 2012-246506
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12月13日(金) - 東京 23区
12月13日(金) - 東京 品川
12月13日(金) -
12月13日(金) -
12月14日(土) -
12月13日(金) - 東京 23区
12月16日(月) -
12月17日(火) -
12月17日(火) -
12月17日(火) - 佐賀 佐賀市
12月17日(火) -
12月18日(水) -
12月18日(水) -
12月18日(水) - 京都 京都市
12月18日(水) -
12月18日(水) -
12月18日(水) -
12月19日(木) - 東京 港区
12月19日(木) -
12月19日(木) -
12月20日(金) -
12月20日(金) - 大阪 大阪市
12月20日(金) -
12月20日(金) -
12月20日(金) -
12月16日(月) -
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