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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第492位 13件
(
2025年:第787位 31件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第777位 6件
(
2025年:第539位 43件)
(ランキング更新日:2026年3月19日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2026-49989 | スパッタリング装置 | 2026年 3月19日 | |
| 特開 2026-47989 | 基板ステージ及び基板ステージを具備するマグネトロンスパッタリング装置 | 2026年 3月16日 | |
| 特開 2026-47990 | スパッタリング装置 | 2026年 3月16日 | |
| 特開 2026-47991 | マグネトロンスパッタリング装置 | 2026年 3月16日 | |
| 特開 2026-47992 | スパッタリング装置 | 2026年 3月16日 | |
| 特開 2026-37575 | 酸化物半導体薄膜、薄膜半導体装置及びその製造方法 | 2026年 3月 6日 | |
| 特開 2026-37725 | 成膜装置及び成膜方法 | 2026年 3月 6日 | |
| 特開 2026-25858 | 表示装置用蒸着装置および表示装置の蒸着方法 | 2026年 2月16日 | |
| 特開 2026-25860 | 表示装置用蒸着装置およびその磁石プレートの交換方法 | 2026年 2月16日 | |
| 特開 2026-25880 | 表示装置用合着装置および表示装置の合着方法 | 2026年 2月16日 | |
| 特開 2026-25884 | 表示装置用剥離装置および表示装置の剥離方法 | 2026年 2月16日 | |
| 特開 2026-21236 | 表示装置製造用キャリアの姿勢変換装置および表示装置製造用キャリアの姿勢変換方法 | 2026年 2月10日 | |
| 特開 2026-21272 | 基板処理装置及びこれを活用した基板処理方法 | 2026年 2月10日 | |
| 特開 2026-20089 | 蒸着装置及びこのメンテナンス方法 | 2026年 2月 6日 | |
| 特開 2026-18194 | 真空配管中粒子モニタリング装置及び真空配管中粒子モニタリング方法 | 2026年 2月 5日 |
22 件中 1-15 件を表示
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2026-49989 2026-47989 2026-47990 2026-47991 2026-47992 2026-37575 2026-37725 2026-25858 2026-25860 2026-25880 2026-25884 2026-21236 2026-21272 2026-20089 2026-18194
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