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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第499位 67件
(2015年:第400位 88件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第236位 145件
(2015年:第166位 188件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2016-216764 | マグネトロンスパッタリング装置用のカソードユニット及びこのカソードユニットを用いたスパッタリング方法 | 2016年12月22日 | |
特開 2016-218050 | ピラニ真空計 | 2016年12月22日 | |
特開 2016-219186 | 正極活物質膜、および、成膜方法 | 2016年12月22日 | |
特開 2016-219450 | 基板処理装置 | 2016年12月22日 | |
特開 2016-219503 | 半導体装置及びその製造方法、並びに実装デバイス | 2016年12月22日 | |
特開 2016-211040 | ターゲットアッセンブリ、スパッタリング装置並びにターゲット材の使用限界判定方法 | 2016年12月15日 | |
特開 2016-211061 | シート状のマスク | 2016年12月15日 | |
特開 2016-211063 | スパッタ方法、および、スパッタ装置 | 2016年12月15日 | |
特開 2016-177870 | イオンビーム装置、イオン注入装置、イオンビーム放出方法 | 2016年10月 6日 | |
特開 2016-161450 | 冷陰極電離真空計 | 2016年 9月 5日 | |
特開 2016-162370 | タッチパネルおよび透明導電性基板 | 2016年 9月 5日 | |
特開 2016-156731 | 隔膜真空計、および、隔膜真空計の製造方法 | 2016年 9月 1日 | |
特開 2016-157820 | マグネトロンスパッタリング装置用の磁石ユニット及びこの磁石ユニットを用いたスパッタリング方法 | 2016年 9月 1日 | |
再表 2014-38152 | 抵抗変化素子及びその製造方法 | 2016年 8月 8日 | |
特開 2016-141830 | 成膜方法及び発光ダイオードの製造方法 | 2016年 8月 8日 |
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2016-216764 2016-218050 2016-219186 2016-219450 2016-219503 2016-211040 2016-211061 2016-211063 2016-177870 2016-161450 2016-162370 2016-156731 2016-157820 2014-38152 2016-141830
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