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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第192位 224件
(2019年:第252位 173件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第293位 94件
(2019年:第282位 100件)
(ランキング更新日:2025年3月26日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2020-203817 | シリコンナノチューブの製造方法 | 2020年12月24日 | |
特開 2020-204050 | 透明導電膜の製造方法、透明導電膜、及びスパッタリングターゲット | 2020年12月24日 | |
特開 2020-204057 | 透明導電性酸化物膜の形成方法、スパッタ装置、および、太陽電池 | 2020年12月24日 | |
特開 2020-204058 | シート基材搬送装置、および、巻取り式成膜システム | 2020年12月24日 | |
特開 2020-204067 | スパッタリング装置及び成膜方法 | 2020年12月24日 | |
特開 2020-204068 | スパッタ用基板支持装置、および、スパッタシステム | 2020年12月24日 | |
特開 2020-204069 | 巻取り式成膜装置、および、巻取り式成膜装置の調整方法 | 2020年12月24日 | |
特開 2020-204070 | 真空蒸着装置 | 2020年12月24日 | |
特開 2020-204083 | PZT膜の成膜方法 | 2020年12月24日 | |
再表 2019-131010 | スパッタリング方法及びスパッタリング装置 | 2020年12月17日 | |
再表 2019-235118 | 真空蒸着装置用の蒸着源 | 2020年12月17日 | |
再表 2019-244730 | 防着部材及び真空処理装置 | 2020年12月17日 | |
再表 2020-4619 | スパッタ成膜装置 | 2020年12月17日 | |
特開 2020-199451 | 成膜装置及び成膜方法 | 2020年12月17日 | |
特開 2020-200487 | 真空蒸着装置用の蒸着源 | 2020年12月17日 |
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3月26日(水) - 東京 港区
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4月1日(火) - 山口 山口市
4月1日(火) -
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