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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第112位 434件 (2012年:第135位 339件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第104位 384件 (2012年:第106位 389件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2013-105949 | 表面波プラズマ処理装置 | 2013年 5月30日 | |
特開 2013-105708 | 薄膜リチウム二次電池及びその製造方法並びに充電方法 | 2013年 5月30日 | |
特開 2013-105546 | 有機EL表示装置、LED装置、太陽電池、反射膜 | 2013年 5月30日 | |
再表 2011-93146 | 有機EL装置 | 2013年 5月30日 | |
特開 2013-101780 | インクジェット塗布装置及びインクジェット塗布方法 | 2013年 5月23日 | 共同出願 |
特開 2013-101992 | プラズマエッチング装置 | 2013年 5月23日 | |
特開 2013-100568 | スパッタ装置、ターゲット装置 | 2013年 5月23日 | |
特開 2013-100581 | 蒸着装置及び蒸着方法 | 2013年 5月23日 | |
特開 2013-100576 | 液体原料の気化方法 | 2013年 5月23日 | |
再表 2011-89925 | 容器 | 2013年 5月23日 | 共同出願 |
特開 2013-98054 | マイクロ波導入装置 | 2013年 5月20日 | 共同出願 |
特開 2013-96443 | 回転導入機、ロボット装置、回転導入方法 | 2013年 5月20日 | |
再表 2011-86971 | 半導体装置の製造方法、及び成膜装置 | 2013年 5月20日 | |
特開 2013-95989 | 除膜方法 | 2013年 5月20日 | |
再表 2011-86649 | LiCoO2焼結体の製造方法及びスパッタリングターゲット | 2013年 5月16日 |
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2013-105949 2013-105708 2013-105546 2011-93146 2013-101780 2013-101992 2013-100568 2013-100581 2013-100576 2011-89925 2013-98054 2013-96443 2011-86971 2013-95989 2011-86649
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11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月27日(水) - 東京 港区
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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12月4日(水) - 東京 千代田区
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12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
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12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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