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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第112位 434件
(2012年:第135位 339件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第104位 384件
(2012年:第106位 389件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2013-69769 | TFT基板の製造方法およびレーザーアニール装置 | 2013年 4月18日 | |
再表 2011-68197 | 光電変換装置及び光電変換装置の製造方法 | 2013年 4月18日 | |
再表 2011-65506 | プラズマ処理装置 | 2013年 4月18日 | |
特開 2013-64187 | 成膜装置及び成膜方法 | 2013年 4月11日 | |
特開 2013-64185 | IGZO膜の形成方法及び薄膜トランジスタの製造方法 | 2013年 4月11日 | |
特開 2013-64171 | スパッタリング装置、成膜方法 | 2013年 4月11日 | |
特開 2013-60613 | 酸化皮膜の形成方法 | 2013年 4月 4日 | 共同出願 |
再表 2011-59003 | 検査装置 | 2013年 4月 4日 | |
特開 2013-60618 | 固体電解質膜形成用のマスク、リチウム二次電池の製造方法 | 2013年 4月 4日 | |
再表 2011-61922 | 透明導電膜の製造方法、透明導電膜の製造装置、スパッタリングターゲット及び透明導電膜 | 2013年 4月 4日 | |
特開 2013-62185 | 透明導電膜形成方法 | 2013年 4月 4日 | |
再表 2011-61912 | 基板中心位置の特定方法 | 2013年 4月 4日 | |
再表 2011-59036 | 半導体装置の製造方法 | 2013年 4月 4日 | |
再表 2011-59035 | 半導体装置の製造方法 | 2013年 4月 4日 | |
特開 2013-58639 | 太陽電池の製造方法、及び太陽電池 | 2013年 3月28日 |
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2013-69769 2011-68197 2011-65506 2013-64187 2013-64185 2013-64171 2013-60613 2011-59003 2013-60618 2011-61922 2013-62185 2011-61912 2011-59036 2011-59035 2013-58639
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