※ ログインすれば出願人(株式会社アルバック)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2013年 出願公開件数ランキング 第112位 434件
(2012年:第135位 339件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第104位 384件
(2012年:第106位 389件)
(ランキング更新日:2025年5月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
再表 2011-52471 | 配線層、半導体装置、半導体装置を有する液晶表示装置 | 2013年 3月21日 | |
特開 2013-55275 | テクスチャー構造形成方法 | 2013年 3月21日 | |
再表 2011-52555 | 有機ELランプ | 2013年 3月21日 | |
特開 2013-49884 | スパッタリング装置 | 2013年 3月14日 | |
再表 2011-49017 | 成膜とクリーニングを行う真空処理方法 | 2013年 3月14日 | |
特開 2013-48268 | 銅膜作製方法 | 2013年 3月 7日 | |
再表 2011-48746 | 磁気転写用原盤の製造方法 | 2013年 3月 7日 | 共同出願 |
特開 2013-44049 | 化合物半導体薄膜の製造方法、化合物半導体薄膜の前駆体薄膜、及び化合物半導体薄膜 | 2013年 3月 4日 | |
再表 2011-43189 | 逆圧対応仕切弁 | 2013年 3月 4日 | |
特開 2013-44551 | 抵抗値と変位を測定する複合測定装置 | 2013年 3月 4日 | |
特開 2013-45826 | プラズマドーピング方法 | 2013年 3月 4日 | |
特開 2013-45794 | 膜抵抗値測定方法 | 2013年 3月 4日 | |
再表 2011-43353 | 電子銃用フィラメント及びその製造方法 | 2013年 3月 4日 | |
特開 2013-40712 | 真空処理装置 | 2013年 2月28日 | |
特開 2013-41998 | 強誘電体膜の作製方法 | 2013年 2月28日 |
434 件中 286-300 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2011-52471 2013-55275 2011-52555 2013-49884 2011-49017 2013-48268 2011-48746 2013-44049 2011-43189 2013-44551 2013-45826 2013-45794 2011-43353 2013-40712 2013-41998
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社アルバックの知財の動向チェックに便利です。
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月5日(木) -
6月6日(金) -
6月10日(火) -
6月10日(火) -
6月11日(水) -
6月11日(水) -
6月12日(木) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月10日(火) -
千葉県船橋市本町6-2-10 ダイアパレスステーションプラザ315 特許・実用新案 商標 外国商標 コンサルティング
オーブ国際特許事務所(東京都)-ソフトウェア・電気電子分野専門
東京都千代田区飯田橋3-3-11新生ビル5階 特許・実用新案 商標 外国特許 鑑定
大阪府大阪市北区西天満3丁目5-10 オフィスポート大阪801号 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 コンサルティング