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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第135位 339件
(2011年:第167位 266件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第106位 389件
(2011年:第133位 277件)
(ランキング更新日:2025年5月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-234960 | 半導体デバイスおよび半導体デバイスの製造方法 | 2012年11月29日 | |
特開 2012-234854 | シリコン球状体用の加工電極装置及び加工方法 | 2012年11月29日 | |
再表 2010-146840 | 基板搬送装置 | 2012年11月29日 | |
特開 2012-234776 | 質量分析計用のイオン源及びこれを備えた質量分析計 | 2012年11月29日 | |
特開 2012-234691 | プラズマ生成方法 | 2012年11月29日 | |
特開 2012-233848 | 酸素検出計 | 2012年11月29日 | |
特開 2012-233214 | 電子ビーム蒸着装置 | 2012年11月29日 | |
特開 2012-233234 | 真空処理装置 | 2012年11月29日 | |
特開 2012-231652 | 真空用モーター、真空用ロボット | 2012年11月22日 | |
再表 2010-143609 | 電子装置の形成方法、電子装置、半導体装置及びトランジスタ | 2012年11月22日 | |
特開 2012-229753 | スライド弁 | 2012年11月22日 | |
特開 2012-230386 | ノズル、液晶材料吐出装置、ノズル製造方法 | 2012年11月22日 | |
特開 2012-229488 | Ni膜の形成方法 | 2012年11月22日 | |
特開 2012-227440 | シリコン基板のエッチング方法、及びシリコン基板のエッチング装置 | 2012年11月15日 | |
特開 2012-227380 | 通電加熱線、通電加熱線の製造方法および真空処理装置 | 2012年11月15日 |
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2012-234960 2012-234854 2010-146840 2012-234776 2012-234691 2012-233848 2012-233214 2012-233234 2012-231652 2010-143609 2012-229753 2012-230386 2012-229488 2012-227440 2012-227380
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6月4日(水) -
6月4日(水) -
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