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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第135位 339件 (2011年:第167位 266件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第106位 389件 (2011年:第133位 277件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-201910 | マグネトロンスパッタ電極及びスパッタリング装置 | 2012年10月22日 | |
再表 2010-116721 | 光電変換装置の製造システム及び光電変換装置の製造方法 | 2012年10月18日 | |
特開 2012-198113 | 漏洩電流測定方法および漏洩電流測定装置 | 2012年10月18日 | |
特開 2012-197941 | 流体制御装置およびこれを用いたガス処理装置 | 2012年10月18日 | 共同出願 |
再表 2010-116747 | メカニカルブースターポンプ、ターボ分子ポンプ又はドライポンプを構成する部材の表面処理方法及びこの表面処理方法により処理されたメカニカルブースターポンプ、ターボ分子ポンプ又はドライポンプ | 2012年10月18日 | |
特開 2012-192506 | 基板搬送ロボット | 2012年10月11日 | |
特開 2012-195426 | 基板処理装置の制御方法 | 2012年10月11日 | |
特開 2012-195211 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2012年10月11日 | |
特開 2012-195336 | 回転駆動装置 | 2012年10月11日 | |
特開 2012-195335 | 回転駆動装置、搬送装置及び回転伝達機構 | 2012年10月11日 | |
特開 2012-195499 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2012年10月11日 | |
特開 2012-195498 | 半導体製造装置 | 2012年10月11日 | |
特開 2012-193812 | 仕切弁 | 2012年10月11日 | |
特開 2012-193413 | 真空蒸着装置及び薄膜の形成方法 | 2012年10月11日 | |
特開 2012-195383 | バリヤー膜の形成方法及びICチップパッケージ | 2012年10月11日 |
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2012-201910 2010-116721 2012-198113 2012-197941 2010-116747 2012-192506 2012-195426 2012-195211 2012-195336 2012-195335 2012-195499 2012-195498 2012-193812 2012-193413 2012-195383
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11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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