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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第112位 434件 (2012年:第135位 339件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第104位 384件 (2012年:第106位 389件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5265309 | スパッタリング方法 | 2013年 8月14日 | |
特許 5265181 | 保護膜製造方法 | 2013年 8月14日 | |
特許 5265275 | 真空処理装置 | 2013年 8月14日 | |
特許 5264403 | プラズマエッチング装置において用いる基板トレイ、エッチング装置及びエッチング方法 | 2013年 8月14日 | |
特許 5252301 | プラズマディスプレイパネルの封止方法、封止機構、封止装置 | 2013年 7月31日 | 共同出願 |
特許 5250887 | 同軸型真空アーク蒸着源及び真空蒸着装置 | 2013年 7月31日 | 共同出願 |
特許 5253426 | 薄膜顔料製造方法 | 2013年 7月31日 | 共同出願 |
特許 5253145 | 真空搬送装置の製造方法及び真空搬送装置 | 2013年 7月31日 | |
特許 5252831 | 誘電体多層膜フィルタの製造方法、及び、誘電体多層膜フィルタの製造装置 | 2013年 7月31日 | |
特許 5250209 | プラズマCVD装置のクリーニング方法 | 2013年 7月31日 | |
特許 5248192 | 透明導電膜の製造装置、透明導電膜の製造方法 | 2013年 7月31日 | |
特許 5248171 | 貴金属膜の成膜装置及び貴金属膜の成膜方法 | 2013年 7月31日 | |
特許 5253246 | 凍結真空乾燥装置 | 2013年 7月31日 | |
特許 5248218 | 圧力測定装置、圧力測定方法 | 2013年 7月31日 | |
特許 5252856 | 半導体基板の製造方法 | 2013年 7月31日 |
384 件中 151-165 件を表示
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5265309 5265181 5265275 5264403 5252301 5250887 5253426 5253145 5252831 5250209 5248192 5248171 5253246 5248218 5252856
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