株式会社アルバック
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第112位 434件
（
2012年：第135位 339件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第104位 384件
（2012年：第106位 389件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社アルバックの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5232671 | 処理装置 | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5230875 | 光照射装置の光照射方法及び光照射装置 | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5235073 | レーザーアニール装置及びレーザーアニール方法 | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5232868 | 基板管理方法 | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5232798 | 基板処理方法 | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5227638 | 真空処理装置 | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5229995 | アンテナ、交流回路、及びプラズマ処理装置 | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5222486 | 透明導電膜の形成方法 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5220150 | 印刷方法 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5222945 | マグネトロンスパッタカソード及び成膜装置 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5222673 | 金属材料の表面処理法 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5220357 | 薄膜形成方法 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5220091 | 成膜源、蒸着装置、有機ＥＬ素子の製造装置 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5219960 | プロセスモニタ装置及び成膜装置、並びにプロセスモニタ方法 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5219748 | スパッタ装置 | 2013年 6月26日 |
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5232671 5230875 5235073 5232868 5232798 5227638 5229995 5222486 5220150 5222945 5222673 5220357 5220091 5219960 5219748
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