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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第135位 339件
(2011年:第167位 266件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第106位 389件
(2011年:第133位 277件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5094557 | スパッタリング装置及びスパッタリング方法 | 2012年12月12日 | |
特許 5094671 | アッシング装置 | 2012年12月12日 | |
特許 5094670 | エッチング装置、マイクロマシーン製造方法 | 2012年12月12日 | |
特許 5097414 | レーザーアニール装置及びその方法 | 2012年12月12日 | 共同出願 |
特許 5094307 | プラズマ処理装置 | 2012年12月12日 | |
特許 5097331 | 表面処理方法 | 2012年12月12日 | 共同出願 |
特許 5095255 | 表面形状測定用触針式段差計の空気抵抗補正方法 | 2012年12月12日 | |
特許 5095084 | 試料の表面形状の測定方法及び装置 | 2012年12月12日 | |
特許 5095624 | 巻取式真空成膜装置 | 2012年12月12日 | |
特許 5097890 | 真空蒸着又はスパッタ用金又は金合金の製造方法、並びにハースインゴットの製造方法 | 2012年12月12日 | |
特許 5094372 | 真空乾燥装置における乾燥終点の確認方法 | 2012年12月12日 | |
特許 5089906 | 縦型化学気相成長装置 | 2012年12月 5日 | |
特許 5089962 | マグネトロンスパッタ電極及びマグネトロンスパッタ電極を備えたスパッタリング装置 | 2012年12月 5日 | |
特許 5090091 | 表面処理装置及びこの表面処理装置を備えた半導体製造装置 | 2012年12月 5日 | |
特許 5090209 | プラズマCVD装置 | 2012年12月 5日 |
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5094557 5094671 5094670 5097414 5094307 5097331 5095255 5095084 5095624 5097890 5094372 5089906 5089962 5090091 5090209
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3月25日(火) -
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