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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第112位 434件 (2012年:第135位 339件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第104位 384件 (2012年:第106位 389件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5371477 | 酸化皮膜の形成方法 | 2013年12月18日 | |
特許 5373168 | 光照射装置 | 2013年12月18日 | |
特許 5362112 | スパッタ成膜装置及び防着部材 | 2013年12月11日 | |
特許 5362121 | 凍結真空乾燥装置及び凍結粒子製造方法 | 2013年12月11日 | |
特許 5366790 | 基板反転装置、真空成膜装置及び基板反転方法 | 2013年12月11日 | |
特許 5363166 | スパッタリング方法 | 2013年12月11日 | |
特許 5363281 | 電源装置 | 2013年12月11日 | |
特許 5367715 | 溶解炉 | 2013年12月11日 | |
特許 5362124 | 凍結真空乾燥装置 | 2013年12月11日 | |
特許 5367689 | プラズマ処理方法 | 2013年12月11日 | |
特許 5362512 | 触媒化学気相成長装置 | 2013年12月11日 | 共同出願 |
特許 5362833 | 太陽電池モジュール | 2013年12月11日 | |
特許 5362029 | 半導体装置の製造方法 | 2013年12月11日 | |
特許 5362511 | 触媒化学気相成長装置 | 2013年12月11日 | 共同出願 |
特許 5361600 | ドライエッチング装置及びドライエッチング方法 | 2013年12月 4日 |
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5371477 5373168 5362112 5362121 5366790 5363166 5363281 5367715 5362124 5367689 5362512 5362833 5362029 5362511 5361600
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2月4日(火) - 東京 港区
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2月6日(木) -
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2月7日(金) -
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