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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第112位 434件 (2012年:第135位 339件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第104位 384件 (2012年:第106位 389件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5322235 | スパッタリング方法 | 2013年10月23日 | |
特許 5323425 | 半導体装置の製造方法 | 2013年10月23日 | |
特許 5325186 | ヘリコンプラズマを用いた超微粒子薄膜形成装置 | 2013年10月23日 | |
特許 5325623 | 電子源 | 2013年10月23日 | |
特許 5323317 | 静電チャック方法 | 2013年10月23日 | |
特許 5324596 | 巻取式真空処理装置 | 2013年10月23日 | |
特許 5322234 | スパッタリング方法及びスパッタリング装置 | 2013年10月23日 | 共同出願 |
特許 5325812 | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | 2013年10月23日 | |
特許 5317844 | 吐出装置 | 2013年10月16日 | |
特許 5317898 | 発光ダイオード素子の製造方法 | 2013年10月16日 | |
特許 5315345 | シリコンの精製方法 | 2013年10月16日 | |
特許 5315149 | 四重極型質量分析計 | 2013年10月16日 | |
特許 5318109 | 磁気記録媒体の製造方法 | 2013年10月16日 | |
特許 5312549 | 吸着装置 | 2013年10月 9日 | |
特許 5313468 | 膜厚測定方法、及び磁気デバイスの製造方法 | 2013年10月 9日 |
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5322235 5323425 5325186 5325623 5323317 5324596 5322234 5325812 5317844 5317898 5315345 5315149 5318109 5312549 5313468
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