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ＪＸ日鉱日石金属株式会社
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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第384位 88件
（
2022年：第451位 72件）
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第295位 111件
（
2022年：第204位 163件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＪＸ日鉱日石金属株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7264936 | 電気電子部品屑の処理方法及び電気電子部品屑の処理装置 | 2023年 4月25日 | |
| 特許 7265004 | 半導体ウエハ、放射線検出素子、放射線検出器、及び化合物半導体単結晶基板の製造方法 | 2023年 4月25日 | |
| 特許 7265064 | 水溶液中の抽出剤の回収方法及び、金属水溶液からの金属の分離回収方法 | 2023年 4月25日 | |
| 特許 7261694 | スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法 | 2023年 4月20日 | |
| 特許 7257562 | 透明導電膜としての機能を有する積層体及びその製造方法並びに当該積層体製造用の酸化物スパッタリングターゲット | 2023年 4月13日 | |
| 特許 7257594 | 製錬炉およびその操業方法 | 2023年 4月13日 | |
| 特許 7251927 | 表面処理銅箔、銅張積層板及びプリント配線板 | 2023年 4月 4日 | |
| 特許 7251928 | 表面処理銅箔、銅張積層板及びプリント配線板 | 2023年 4月 4日 | |
| 特許 7250723 | スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法 | 2023年 4月 3日 | |
| 特許 7250919 | 半導体ウエハ、放射線検出素子、放射線検出器、及び化合物半導体単結晶基板の製造方法 | 2023年 4月 3日 | |
| 特許 7247049 | セレノ硫酸溶液の処理方法 | 2023年 3月28日 | |
| 特許 7247050 | セレノ硫酸溶液の処理方法 | 2023年 3月28日 | |
| 特許 7247322 | 炭酸塩の晶析方法及び、炭酸塩の精製方法 | 2023年 3月28日 | |
| 特許 7246232 | スパッタリングターゲット部材、スパッタリングターゲット、スパッタリングターゲット部材の製造方法、及びスパッタ膜の製造方法 | 2023年 3月27日 | |
| 特許 7246370 | スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法 | 2023年 3月27日 |
113 件中 76-90 件を表示
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7264936 7265004 7265064 7261694 7257562 7257594 7251927 7251928 7250723 7250919 7247049 7247050 7247322 7246232 7246370
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