特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社アルバック

※ ログインすれば出願人(株式会社アルバック)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2012年出願公開件数ランキング　　　第135位　339件（2011年：第167位　266件）

　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第106位　389件（2011年：第133位　277件）

（ランキング更新日：2025年2月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

株式会社アルバックの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2012-219330	相変化メモリの形成装置、及び相変化メモリの形成方法	2012年11月12日
特開 2012-219321	真空処理装置	2012年11月12日
特開 2012-216709	処理装置および処理方法	2012年11月 8日
再表 2010-134346	成膜方法及び成膜装置	2012年11月 8日
特開 2012-212899	Ｃｕ膜の形成方法	2012年11月 1日
特開 2012-212820	透明導電膜の作成方法	2012年11月 1日
特開 2012-211395	成膜装置	2012年11月 1日
特開 2012-208007	含水量の測定方法	2012年10月25日
特開 2012-207307	成膜装置及び成膜方法	2012年10月25日
再表 2010-125801	ＺｎＯ−Ｇａ２Ｏ３系スパッタリングターゲット用焼結体及びその製造方法	2012年10月25日
再表 2010-125836	光照射装置の光照射方法及び光照射装置	2012年10月25日
再表 2010-123004	真空蒸着システム及び真空蒸着方法	2012年10月25日
特開 2012-207310	金属酸化膜の蒸着方法及びプラズマディスプレイパネルの製造方法	2012年10月25日
特開 2012-201910	マグネトロンスパッタ電極及びスパッタリング装置	2012年10月22日
特開 2012-204655	ＮｉＳｉ膜の形成方法、シリサイド膜の形成方法、シリサイドアニール用金属膜の形成方法、真空処理装置、及び成膜装置	2012年10月22日

339 件中 61-75 件を表示

... 5

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2012-219330 2012-219321 2012-216709 2010-134346 2012-212899 2012-212820 2012-211395 2012-208007 2012-207307 2010-125801 2010-125836 2010-123004 2012-207310 2012-201910 2012-204655

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社アルバックの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数