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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第327位 135件
(2016年:第499位 67件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第348位 80件
(2016年:第236位 145件)
(ランキング更新日:2023年9月26日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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再表 2015-182090 | 成膜装置、有機膜の膜厚測定方法および有機膜用膜厚センサ | 2017年 4月20日 | |
再表 2015-194452 | 多層膜及びその製造方法 | 2017年 4月20日 | |
再表 2015-198882 | PZT薄膜積層体及びPZT薄膜積層体の製造方法 | 2017年 4月20日 | |
特開 2017-75360 | スパッタリング装置 | 2017年 4月20日 | |
特開 2017-76821 | インライン式成膜装置、および、成膜方法 | 2017年 4月20日 | |
再表 2015-145945 | 真空溶解鋳造装置 | 2017年 4月13日 | |
再表 2015-146025 | 成膜装置及び成膜方法 | 2017年 4月13日 | |
再表 2015-133000 | 深紫外LED及びその製造方法 | 2017年 4月 6日 | |
再表 2015-137150 | イオン照射装置、イオン照射方法 | 2017年 4月 6日 | |
再表 2015-137198 | 多層膜の製造方法および多層膜 | 2017年 4月 6日 | |
特開 2017-64311 | 生体材料の製造方法、人工血管用材料の製造方法、及び生体材料 | 2017年 4月 6日 | |
特開 2017-64757 | レーザー加工装置 | 2017年 4月 6日 | |
再表 2015-122159 | カーボン電極膜の形成方法、カーボン電極および相変化型メモリ素子の製造方法 | 2017年 3月30日 | |
再表 2015-125449 | 抵抗変化素子及びその製造方法 | 2017年 3月30日 | |
再表 2015-129719 | プラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置、プラズマ処理方法、およびプラズマ処理装置 | 2017年 3月30日 |
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2015-182090 2015-194452 2015-198882 2017-75360 2017-76821 2015-145945 2015-146025 2015-133000 2015-137150 2015-137198 2017-64311 2017-64757 2015-122159 2015-125449 2015-129719
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9月27日(水) -
最新の制度改正を反映海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国) ~米国ならびにEPC(欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
9月27日(水) -
9月28日(木) -
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9月29日(金) -
10月1日(日) -
9月26日(火) - 東京 港区
0月3日(火) -
0月3日(火) -
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0月5日(木) -
0月6日(金) - 東京 港区
0月7日(土) -
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