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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第2460位 8件
(2023年:第4586位 4件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第2210位 8件
(2023年:第6302位 2件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7595197 | 金属-誘電体ストライプ配列に基づく超解像レンズの調製方法および使用 | 2024年12月 5日 | |
特許 7576192 | 照明視野の不均一性検知システム、検知方法、補正方法および装置 | 2024年10月30日 | |
特許 7564972 | フォトリソグラフィ方法 | 2024年10月 9日 | |
特許 7558433 | 表面プラズモン近接場リソグラフィにおけるマスクのトポロジ最適化の方法及びシステム | 2024年 9月30日 | |
特許 7519554 | 近接場フォトリソグラフィー浸漬システム、その浸漬ユニット及びインターフェースモジュール | 2024年 7月19日 | |
特許 7500035 | 多機能フォトリソグラフィ装置 | 2024年 6月17日 | |
特許 7497537 | レベルセットアルゴリズムに基づく超解像リソグラフィのリバース光近接効果補正方法 | 2024年 6月10日 | |
特許 7431475 | 超解像フォトリソグラフィ精密マスク用のインテリジェント補正装置制御システム | 2024年 2月15日 |
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7595197 7576192 7564972 7558433 7519554 7500035 7497537 7431475
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