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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第334位 117件
(2018年:第1087位 24件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第244位 113件
(2018年:第930位 22件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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再表 2018-163386 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム | 2019年12月26日 | |
再表 2018-173197 | 発熱体、基板処理装置および半導体装置の製造方法 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-220575 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム | 2019年12月26日 | |
再表 2018-179354 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | 2019年12月19日 | |
再表 2018-150536 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム | 2019年12月12日 | |
再表 2018-150537 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム | 2019年12月12日 | |
特開 2019-212740 | クリーニング方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム | 2019年12月12日 | |
特開 2019-208066 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | 2019年12月 5日 | |
特開 2019-203182 | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 | 2019年11月28日 | |
特開 2019-204962 | ガス供給ノズル、基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム | 2019年11月28日 | |
再表 2018-167846 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム | 2019年11月21日 | |
再表 2018-179496 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | 2019年11月21日 | |
再表 2019-82569 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法及び記録媒体 | 2019年11月14日 | |
再表 2018-150615 | 基板処理装置、反応管、半導体装置の製造方法及びプログラム | 2019年11月 7日 | |
再表 2018-154823 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム | 2019年11月 7日 |
117 件中 1-15 件を表示
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2018-163386 2018-173197 2019-220575 2018-179354 2018-150536 2018-150537 2019-212740 2019-208066 2019-203182 2019-204962 2018-167846 2018-179496 2019-82569 2018-150615 2018-154823
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2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
3月4日(火) - 東京 港区
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月5日(水) -
3月5日(水) -
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 品川区
3月6日(木) - 東京 港区
3月6日(木) -
3月7日(金) -
3月7日(金) - 東京 港区
3月7日(金) -
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3月4日(火) - 東京 港区
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