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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第332位 110件 (2019年:第334位 117件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第276位 101件 (2019年:第244位 113件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2020-205406 | 加熱部、温度制御システム、処理装置および半導体装置の製造方法 | 2020年12月24日 | |
特開 2020-205438 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム | 2020年12月24日 | |
再表 2019-176031 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム | 2020年12月17日 | |
再表 2019-180906 | 気化器、基板処理装置及び半導体装置の製造方法 | 2020年12月17日 | |
再表 2019-207864 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム | 2020年12月10日 | |
特開 2020-198424 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置及びプログラム | 2020年12月10日 | |
特開 2020-198447 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | 2020年12月10日 | |
特開 2020-194972 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、プログラム | 2020年12月 3日 | |
再表 2019-58554 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | 2020年11月26日 | |
特開 2020-191350 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム | 2020年11月26日 | |
特開 2020-188229 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム | 2020年11月19日 | |
特開 2020-188237 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム | 2020年11月19日 | |
特開 2020-188279 | クリーニング方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | 2020年11月19日 | |
特開 2020-188280 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、プログラムおよび反応管 | 2020年11月19日 | |
特開 2020-182001 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、プログラムおよび処理容器 | 2020年11月 5日 |
110 件中 1-15 件を表示
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2020-205406 2020-205438 2019-176031 2019-180906 2019-207864 2020-198424 2020-198447 2020-194972 2019-58554 2020-191350 2020-188229 2020-188237 2020-188279 2020-188280 2020-182001
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1月31日(金) -
1月31日(金) -
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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