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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第434位 58件
(
2025年:第432位 71件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第447位 46件
(
2025年:第427位 61件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7905833 | 基板処理方法、半導体装置の製造方法、基板処理システム、およびプログラム | 2026年 8月17日 | |
| 特許 7905450 | 基板処理装置、基板処理方法、半導体装置の製造方法及びプログラム | 2026年 8月14日 | |
| 特許 7901031 | 基板処理装置、基板処理方法、半導体装置の製造方法及びプログラム | 2026年 8月 5日 | |
| 特許 7894820 | 基板処理装置、基板支持具の搬送方法、基板処理方法、半導体装置の製造方法及びプログラム | 2026年 7月24日 | |
| 特許 7894819 | 基板処理装置、基板処理方法、半導体装置の製造方法及びプログラム | 2026年 7月24日 | |
| 特許 7887247 | 成膜方法 | 2026年 7月 9日 | |
| 特許 7886954 | 基板処理方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | 2026年 7月 8日 | |
| 特許 7882963 | 基板処理装置、ノズル、半導体装置の製造方法、及びプログラム | 2026年 6月30日 | |
| 特許 7881726 | 基板処理装置、断熱構造、基板処理方法、半導体装置の製造方法及びプログラム | 2026年 6月29日 | |
| 特許 7870329 | 基板処理方法、プログラム、基板処理装置及び半導体装置の製造方法 | 2026年 6月 4日 | |
| 特許 7858774 | 基板処理装置、ガスノズル、半導体装置の製造方法、基板処理方法及びプログラム | 2026年 5月14日 | |
| 特許 7857455 | 処理方法、半導体装置の製造方法、処理装置、およびプログラム | 2026年 5月12日 | |
| 特許 7846640 | 基板処理方法 | 2026年 4月15日 | |
| 特許 7844697 | 基板処理方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | 2026年 4月13日 | |
| 特許 7844154 | 基板処理方法、基板処理装置、およびプログラム | 2026年 4月13日 |
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7905833 7905450 7901031 7894820 7894819 7887247 7886954 7882963 7881726 7870329 7858774 7857455 7846640 7844697 7844154
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