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株式会社ＫＯＫＵＳＡＩ　ＥＬＥＣＴＲＩＣ

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株式会社ＫＯＫＵＳＡＩ　ＥＬＥＣＴＲＩＣの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7838074	基板処理方法、半導体装置の製造方法、プログラムおよび基板処理装置	2026年 3月31日
特許 7834629	基板処理装置、半導体装置の製造方法及び基板処理プログラム	2026年 3月24日
特許 7834130	基板処理方法、半導体装置の製造方法、プログラム、および基板処理装置	2026年 3月23日
特許 7828865	基板処理装置、ガスノズル、半導体装置の製造方法、およびプログラム	2026年 3月12日
特許 7828977	基板処理方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム	2026年 3月12日
特許 7827616	基板処理方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム	2026年 3月10日
特許 7826432	基板処理装置、電極、半導体装置の製造方法およびプログラム	2026年 3月 9日
特許 7826250	基板処理装置、プラズマ生成装置、プラズマ生成方法、基板処理方法、半導体装置の製造方法およびプログラム	2026年 3月 9日
特許 7821270	基板処理装置、半導体装置の製造方法、基板処理方法及びプログラム	2026年 2月26日
特許 7812003	基板処理方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム	2026年 2月 6日
特許 7812002	基板処理装置、ガス供給ユニット、半導体装置の製造方法及びプログラム	2026年 2月 6日
特許 7807547	基板処理装置、基板処理方法、及び半導体装置の製造方法	2026年 1月27日
特許 7802191	基板処理装置、半導体装置の製造方法、コンピュータプログラム、プログラムおよび基板処理方法	2026年 1月19日
特許 7798919	基板処理装置、処理容器、基板処理方法、半導体装置の製造方法及びプログラム	2026年 1月14日
特許 7798744	ガス供給体、処理装置及び半導体装置の製造方法	2026年 1月14日

47 件中 31-45 件を表示

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7838074 7834629 7834130 7828865 7828977 7827616 7826432 7826250 7821270 7812003 7812002 7807547 7802191 7798919 7798744

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