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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第94位 457件
(
2014年:第113位 412件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第59位 406件
(
2014年:第66位 549件)
(ランキング更新日:2025年10月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5819866 | 付加硬化型シリコーン組成物、光学素子封止材および光学素子 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5820766 | フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクブランク、フォトマスク、および、パターン転写方法 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5820896 | 多結晶シリコンの製造方法 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5820917 | 多結晶シリコンの製造方法 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5821160 | 熱伝導性シリコーンゲル組成物の製造方法 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5821796 | ポリジメチルシルメチレンシロキサンの製造方法 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5821829 | シリコーンゴム組成物及びシリコーンゴム成形物 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5821862 | ネガ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5821866 | 共役ジエン構造基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5821893 | 非水電解質二次電池用負極活物質、及びそれを用いた非水電解質二次電池 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5822045 | 複フッ化物蛍光体の製造方法 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5822401 | リソグラフィ用ペリクル | 2015年11月24日 | |
| 特許 5816562 | 熱交換器およびシリコン系材料用エッチング液の除熱方法 | 2015年11月18日 | |
| 特許 5817626 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 | 2015年11月18日 | |
| 特許 5817650 | パターン形成方法及びレジスト組成物 | 2015年11月18日 |
423 件中 46-60 件を表示
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5819866 5820766 5820896 5820917 5821160 5821796 5821829 5821862 5821866 5821893 5822045 5822401 5816562 5817626 5817650
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