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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第94位 457件
(2014年:第113位 412件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第59位 406件
(2014年:第66位 549件)
(ランキング更新日:2025年4月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5817707 | 現像液及びこれを用いたパターン形成方法 | 2015年11月18日 | |
特許 5817744 | パターン形成方法、レジスト組成物、高分子化合物及び単量体 | 2015年11月18日 | |
特許 5817937 | 太陽電池セル封止用シリコーンゲル組成物及び太陽電池モジュール | 2015年11月18日 | |
特許 5814175 | LEDのリフレクター用熱硬化性シリコーン樹脂組成物並びにこれを用いたLED用リフレクター及び光半導体装置 | 2015年11月17日 | |
特許 5814209 | コーティング剤組成物、該組成物を含む表面処理剤及び該表面処理剤で表面処理された物品 | 2015年11月17日 | |
特許 5815477 | ケイ素含有レジスト下層膜の製膜方法 | 2015年11月17日 | |
特許 5815575 | パターン形成方法 | 2015年11月17日 | |
特許 5815576 | パターン形成方法 | 2015年11月17日 | |
特許 5810865 | シリコーン粘着剤用縮合反応硬化型プライマー組成物 | 2015年11月11日 | |
特許 5811054 | 押出成形用水硬性組成物 | 2015年11月11日 | |
特許 5811117 | 硬化性シリコーン組成物の硬化方法 | 2015年11月11日 | |
特許 5811985 | 接着剤組成物 | 2015年11月11日 | |
特許 5812022 | 含フッ素オルガノシロキサン及びその製造方法 | 2015年11月11日 | |
特許 5812030 | スルホニウム塩及び高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 | 2015年11月11日 | |
特許 5806163 | 2−シアノエチル基含有有機化合物の製造方法 | 2015年11月10日 |
423 件中 61-75 件を表示
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5817707 5817744 5817937 5814175 5814209 5815477 5815575 5815576 5810865 5811054 5811117 5811985 5812022 5812030 5806163
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