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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第94位 457件
(
2014年:第113位 412件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第59位 406件
(
2014年:第66位 549件)
(ランキング更新日:2025年10月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5794209 | 太陽電池素子の製造方法及びスクリーン印刷機 | 2015年10月14日 | |
| 特許 5794241 | マイクロ構造体用樹脂構造体の製造方法及びマイクロ構造体の製造方法 | 2015年10月14日 | |
| 特許 5794243 | パターン形成方法 | 2015年10月14日 | |
| 特許 5794359 | 電子線用又はEUV用化学増幅ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2015年10月14日 | |
| 特許 5794360 | 化学増幅ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2015年10月14日 | |
| 特許 5794637 | マイクロエマルション組成物および毛髪化粧料 | 2015年10月14日 | |
| 特許 5794955 | β−Ga2O3単結晶膜付基板の製造方法 | 2015年10月14日 | |
| 特許 5795212 | 新規なブロック型オルガノポリシロキサン及びこれを含有する化粧料 | 2015年10月14日 | |
| 特許 5795231 | グリセロール基含有オルガノポリシロキサン、化粧料及びグリセロール基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 | 2015年10月14日 | |
| 特許 5795251 | 光学半導体装置用基台及びその製造方法、並びに光学半導体装置 | 2015年10月14日 | |
| 特許 5795281 | 化粧料 | 2015年10月14日 | |
| 特許 5795728 | 固体微粒子回収方法 | 2015年10月14日 | |
| 特許 5795747 | ペリクルフレーム及びペリクル | 2015年10月14日 | |
| 特許 5795991 | フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、および位相シフトマスクの製造方法 | 2015年10月14日 | |
| 特許 5795992 | フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法 | 2015年10月14日 |
423 件中 106-120 件を表示
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5794209 5794241 5794243 5794359 5794360 5794637 5794955 5795212 5795231 5795251 5795281 5795728 5795747 5795991 5795992
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