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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第98位 436件
(2015年:第94位 457件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第69位 422件
(2015年:第59位 406件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5896034 | 可視光応答型光触媒微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 | 2016年 3月30日 | |
特許 5896038 | ナノカーボン膜の作製方法 | 2016年 3月30日 | |
特許 5896929 | クロロシラン類の廃ガス処理システムおよび廃ガス処理方法 | 2016年 3月30日 | |
特許 5897001 | 多結晶シリコン棒の選択方法および単結晶シリコンの製造方法 | 2016年 3月30日 | |
特許 5891948 | 剥離シート用重剥離添加剤及び剥離シート用ポリオルガノシロキサン組成物並びに剥離シート | 2016年 3月23日 | |
特許 5892074 | 自動車用部材 | 2016年 3月23日 | |
特許 5892527 | 太陽電池用FZシリコン単結晶の製造方法及び太陽電池の製造方法 | 2016年 3月23日 | |
特許 5892552 | 弾性表面波素子用タンタル酸リチウム単結晶基板の製造方法及びその弾性表面波素子用タンタル酸リチウム単結晶基板 | 2016年 3月23日 | |
特許 5893004 | カチオン性(メタ)アクリルシリコーン系グラフト共重合体及びそれを含有する化粧料 | 2016年 3月23日 | |
特許 5893874 | 光半導体装置 | 2016年 3月23日 | |
特許 5894106 | レジスト下層膜形成用化合物、これを用いたレジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、パターン形成方法 | 2016年 3月23日 | |
特許 5890284 | 新規有機珪素化合物の製造方法 | 2016年 3月22日 | |
特許 5890288 | 新規有機珪素化合物の製造方法 | 2016年 3月22日 | |
特許 5891043 | 熱交換器用滑水性アルミニウムフィン材並びに熱交換器の製造方法 | 2016年 3月22日 | |
特許 5885957 | 粒子分級装置 | 2016年 3月16日 |
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5896034 5896038 5896929 5897001 5891948 5892074 5892527 5892552 5893004 5893874 5894106 5890284 5890288 5891043 5885957
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