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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第120位 389件
(2018年:第92位 456件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第98位 282件
(2018年:第116位 260件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6493839 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2019年 4月 3日 | |
特許 6495118 | 外観検査装置および外観検査方法 | 2019年 4月 3日 | |
特許 6495119 | 保持機構、外観検査装置、および保持方法 | 2019年 4月 3日 | |
特許 6495707 | 露光装置および基板処理装置 | 2019年 4月 3日 | |
特許 6496159 | パターン検査装置およびパターン検査方法 | 2019年 4月 3日 | |
特許 6496171 | 基板処理装置 | 2019年 4月 3日 | |
特許 6496186 | 基板処理装置 | 2019年 4月 3日 | |
特許 6496212 | 印刷装置 | 2019年 4月 3日 | |
特許 6496561 | 成膜装置および成膜方法 | 2019年 4月 3日 | |
特許 6489421 | 光強度設定方法、検査方法および検査装置 | 2019年 3月27日 | |
特許 6489475 | 基板処理装置 | 2019年 3月27日 | |
特許 6489479 | 基板処理装置 | 2019年 3月27日 | |
特許 6489524 | 基板処理装置 | 2019年 3月27日 | |
特許 6491900 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2019年 3月27日 | |
特許 6491974 | 露光データ補正装置、配線パターン形成システム、及び配線基板の製造方法 | 2019年 3月27日 |
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6493839 6495118 6495119 6495707 6496159 6496171 6496186 6496212 6496561 6489421 6489475 6489479 6489524 6491900 6491974
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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