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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第108位 369件
(2020年:第107位 385件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第76位 336件
(2020年:第118位 239件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6850650 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2021年 3月31日 | |
特許 6853728 | 試料容器およびこれを用いる撮像方法 | 2021年 3月31日 | |
特許 6845730 | 熱処理装置 | 2021年 3月24日 | |
特許 6846232 | 印刷データ処理方法、印刷データ処理装置、および印刷データ処理プログラム | 2021年 3月24日 | |
特許 6846964 | 基板処理装置 | 2021年 3月24日 | |
特許 6847610 | 熱処理装置 | 2021年 3月24日 | |
特許 6847726 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2021年 3月24日 | |
特許 6847754 | 顔料組成物及びインクジェット用水性インク組成物 | 2021年 3月24日 | |
特許 6847770 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2021年 3月24日 | |
特許 6842329 | 画像処理方法および画像処理装置 | 2021年 3月17日 | |
特許 6842934 | 基板搬送装置、検出位置較正方法および基板処理装置 | 2021年 3月17日 | |
特許 6842952 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2021年 3月17日 | |
特許 6845027 | 現像方法および現像装置 | 2021年 3月17日 | |
特許 6845056 | 塗布装置および塗布方法 | 2021年 3月17日 | |
特許 6845058 | 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 | 2021年 3月17日 |
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6850650 6853728 6845730 6846232 6846964 6847610 6847726 6847754 6847770 6842329 6842934 6842952 6845027 6845056 6845058
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