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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第83位 510件
(2015年:第35位 1086件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第40位 668件
(2015年:第42位 547件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5957902 | 画像処理装置、画像処理システム、プログラムおよび表示方法 | 2016年 7月27日 | |
特許 5958018 | ズームレンズ、撮像装置 | 2016年 7月27日 | |
特許 5953653 | エンコーダ、駆動装置及びロボット装置 | 2016年 7月20日 | |
特許 5953656 | 照明光学装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | 2016年 7月20日 | |
特許 5953657 | 空間光変調器、露光装置、及びデバイス製造方法 | 2016年 7月20日 | |
特許 5953679 | レンズ鏡筒およびカメラシステム | 2016年 7月20日 | |
特許 5953753 | 非線形顕微鏡及び非線形観察方法 | 2016年 7月20日 | |
特許 5954388 | 振れ補正装置および撮影装置 | 2016年 7月20日 | |
特許 5954394 | 液浸リソグフラフィ装置用の移送領域を含む環境システム | 2016年 7月20日 | |
特許 5954405 | 電子機器 | 2016年 7月20日 | |
特許 5954557 | 移動体装置、物体処理装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | 2016年 7月20日 | |
特許 5949760 | CaF2多結晶体、フォーカスリング、プラズマ処理装置及びCaF2多結晶体の製造方法 | 2016年 7月13日 | |
特許 5949772 | サーバ装置、仕様決定方法、及び仕様決定プログラム | 2016年 7月13日 | |
特許 5949876 | 液浸リソグラフィ装置用の減圧排出を含む環境システム | 2016年 7月13日 | |
特許 5949878 | 露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法 | 2016年 7月13日 |
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5957902 5958018 5953653 5953656 5953657 5953679 5953753 5954388 5954394 5954405 5954557 5949760 5949772 5949876 5949878
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2月22日(土) - 東京 板橋区
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