※ ログインすれば出願人(株式会社ニコン)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2016年 出願公開件数ランキング 第83位 510件
(2015年:第35位 1086件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第40位 668件
(2015年:第42位 547件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6044209 | 操作装置および操作機器 | 2016年12月14日 | |
特許 6044272 | 補助撮像装置 | 2016年12月14日 | |
特許 6044332 | 針状酸化亜鉛結晶を備えた物品の製造方法、電界効果トランジスタの製造方法、電子デバイスの製造方法 | 2016年12月14日 | |
特許 6044349 | マグネシウム精錬装置およびマグネシウム精錬方法 | 2016年12月14日 | |
特許 6044445 | 固体撮像素子及び撮像装置 | 2016年12月14日 | |
特許 6044570 | 基板保持部材および接合装置 | 2016年12月14日 | |
特許 6044666 | 露光装置、及びデバイス製造方法 | 2016年12月14日 | |
特許 6044705 | 形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、構造物製造方法、及び形状測定プログラム | 2016年12月14日 | |
特許 6044777 | 画像処理装置、撮像装置及び画像処理プログラム | 2016年12月14日 | |
特許 6040594 | 撮像装置、画像処理装置及び画像処理プログラム | 2016年12月 7日 | |
特許 6040992 | 集積光学アセンブリの改良 | 2016年12月 7日 | |
特許 6041062 | 撮像装置 | 2016年12月 7日 | |
特許 6041112 | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 | 2016年12月 7日 | |
特許 6032503 | 駆動システム及び駆動方法、並びに露光装置及び露光方法 | 2016年11月30日 | |
特許 6035670 | 露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法、並びに露光装置 | 2016年11月30日 |
678 件中 31-45 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6044209 6044272 6044332 6044349 6044445 6044570 6044666 6044705 6044777 6040594 6040992 6041062 6041112 6032503 6035670
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社ニコンの知財の動向チェックに便利です。
7月1日(火) -
7月2日(水) -
7月2日(水) -
7月3日(木) -
7月3日(木) -
7月1日(火) -
〒195-0074 東京都町田市山崎町1089-10 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 鑑定 コンサルティング
東京都武蔵野市吉祥寺本町1丁目35-14-202 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 鑑定 コンサルティング
オーブ国際特許事務所(東京都)-ソフトウェア・電気電子分野専門
東京都千代田区飯田橋3-3-11新生ビル5階 特許・実用新案 商標 外国特許 鑑定