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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第210位 167件 (2023年:第339位 102件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-24583 | レジスト下層膜用組成物およびこれを用いたパターン形成方法 | 2024年 2月22日 | |
特表 2024-507358 | 全固体二次電池及びその製造方法 | 2024年 2月19日 | |
特開 2024-21041 | 半導体フォトレジスト用組成物およびこれを用いたパターン形成方法 | 2024年 2月15日 | |
特表 2024-506152 | リチウム二次電池用電解質及びそれを含むリチウム二次電池 | 2024年 2月 9日 | |
特開 2024-14832 | リチウム電池及びその製造方法 | 2024年 2月 1日 | |
特表 2024-504443 | 無溶媒型硬化性組成物、前記組成物を用いて製造された硬化膜、前記硬化膜を含むカラーフィルタ、およびディスプレイ装置 | 2024年 1月31日 | |
特表 2024-503987 | インク組成物、これを利用した膜およびディスプレイ装置 | 2024年 1月30日 | |
特表 2024-503902 | リチウム電池電解質用添加剤、それを含む有機電解液、及び該電解液を採用したリチウム電池 | 2024年 1月29日 | |
特表 2024-503907 | リチウム二次電池用電解液およびこれを含むリチウム二次電池 | 2024年 1月29日 | |
特表 2024-503911 | リチウム二次電池用電解液およびこれを含むリチウム二次電池 | 2024年 1月29日 | |
特表 2024-503912 | リチウム電池用電解質及びそれを含むリチウム電池 | 2024年 1月29日 | |
特開 2024-10648 | 半導体フォトレジスト用組成物およびこれを用いたパターン形成方法 | 2024年 1月24日 | |
特開 2024-9826 | 染料、これを含む組成物、フィルム、光学部材およびディスプレイ装置 | 2024年 1月23日 | |
特表 2024-502453 | リチウム二次電池用電解質、及びそれを含むリチウム二次電池 | 2024年 1月19日 | |
特開 2024-7318 | 金属含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを用いた現像工程を含むパターン形成方法 | 2024年 1月18日 |
169 件中 151-165 件を表示
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2024-24583 2024-507358 2024-21041 2024-506152 2024-14832 2024-504443 2024-503987 2024-503902 2024-503907 2024-503911 2024-503912 2024-10648 2024-9826 2024-502453 2024-7318
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1月30日(木) -
1月30日(木) -
1月30日(木) - 東京 港区
1月31日(金) -
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