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エフ・イ−・アイ・カンパニー

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エフ・イ−・アイ・カンパニーの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特表 2011-527637	レーザ機械加工のための方法および装置	2011年11月 4日
特表 2011-527639	レーザ機械加工のための方法および装置	2011年11月 4日
特開 2011-215135	フィーチャをビューイングするための自動スライス・ミリング	2011年10月27日
特開 2011-210740	二重ビーム装置	2011年10月20日
特開 2011-204672	誘導結合プラズマ・イオン源用のプラズマ点火装置	2011年10月13日
特開 2011-199323	欠陥分析器	2011年10月 6日
特開 2011-159319	画像上または撮像されたオブジェクト上で動作を実行する方法、画像またはオブジェクト上で反復的な動作を実行する方法、幾何学的情報と非幾何学的情報をグラフィック図形に関連付けるステップを含む動作を制御する方法、計測プランを含む方法およびコンピュータ可読媒体	2011年 8月18日
特開 2011-151042	磁界レンズ	2011年 8月 4日
特開 2011-146399	ビームシステムのビームカラムを傾動する方法とその装置並びにビームシステム	2011年 7月28日
特開 2011-100722	ユーザが選択可能な複数の動作モードを有する荷電粒子ビーム・システム	2011年 5月19日
特開 2011-80142	ビーム誘起処理における窒素ベース化合物の使用	2011年 4月21日
特開 2011-39053	Ｘ線分光法用の微量熱量測定	2011年 2月24日
特開 2011-40747	ガス支援レーザ・アブレーション	2011年 2月24日
特開 2011-9215	ＦＩＢシステムのビーム品質の改善	2011年 1月13日

14 件中 1-14 件を表示

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2011-527637 2011-527639 2011-215135 2011-210740 2011-204672 2011-199323 2011-159319 2011-151042 2011-146399 2011-100722 2011-80142 2011-39053 2011-40747 2011-9215

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