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エフ・イ−・アイ・カンパニー
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第1203位 22件
（
2014年：第986位 28件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第1019位 20件
（
2014年：第1392位 18件）
（ランキング更新日：2025年3月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エフ・イ−・アイ・カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2015-536457 | 自動化された鉱物分類 | 2015年12月21日 | |
| 特表 2015-533215 | 高アスペクト比構造体の分析 | 2015年11月19日 | |
| 特表 2015-533255 | 荷電粒子ビーム試料作製におけるカーテニングを低減させる方法およびシステム | 2015年11月19日 | |
| 特表 2015-533256 | 傾斜ミリング保護のためのバルク付着 | 2015年11月19日 | |
| 特表 2015-533263 | 多次元構造体アクセス | 2015年11月19日 | |
| 特開 2015-207559 | 高アスペクト比Ｘ線ターゲットおよびその使用 | 2015年11月19日 | |
| 特開 2015-204296 | 大容量ＴＥＭグリッド | 2015年11月16日 | |
| 特開 2015-170600 | 相関原子分解能断層撮影分析用の適応性がある（ｍａｌｌｅａｂｌｅ）薄片の製作 | 2015年 9月28日 | |
| 特開 2015-164227 | レーザ・アブレーション微細機械加工用の荷電粒子ビーム・マスキング | 2015年 9月10日 | |
| 特表 2015-525951 | 多種イオン源 | 2015年 9月 7日 | |
| 特表 2015-525959 | 集束イオン・ビーム処理の終点決定 | 2015年 9月 7日 | |
| 特表 2015-524987 | 環境制御型ＳＥＭガス注入システム | 2015年 8月27日 | |
| 特表 2015-523581 | 自動化されたＥＤＳ標準の較正 | 2015年 8月13日 | |
| 特開 2015-143688 | プログラムされたマニピュレータを用いた表面除層 | 2015年 8月 6日 | |
| 特表 2015-517676 | ＴＥＭ観察用の薄片の調製 | 2015年 6月22日 |
22 件中 1-15 件を表示
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2015-536457 2015-533215 2015-533255 2015-533256 2015-533263 2015-207559 2015-204296 2015-170600 2015-164227 2015-525951 2015-525959 2015-524987 2015-523581 2015-143688 2015-517676
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