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エフ・イ−・アイ・カンパニー
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第3054位 6件
（
2017年：第1994位 12件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第930位 22件
（2017年：第872位 25件）
（ランキング更新日：2025年3月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エフ・イ−・アイ・カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2018-190705 | 荷電粒子源の放出雑音補正 | 2018年11月29日 | |
| 特開 2018-186076 | 荷電粒子顕微鏡における収差測定 | 2018年11月22日 | |
| 特開 2018-152327 | 衝突イオン化源 | 2018年 9月27日 | |
| 特開 2018-152548 | 欠陥分析 | 2018年 9月27日 | |
| 特開 2018-136306 | ｅビーム操作用の局部的に排気された容積を用いる集積回路解析システムおよび方法 | 2018年 8月30日 | |
| 特開 2018-98194 | 炭素除去のための荷電粒子ビーム・プロセスの強化 | 2018年 6月21日 |
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2018-190705 2018-186076 2018-152327 2018-152548 2018-136306 2018-98194
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