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エフ・イ−・アイ・カンパニー
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第1994位 12件
（
2016年：第1271位 20件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第872位 25件
（
2016年：第1121位 19件）
（ランキング更新日：2025年6月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エフ・イ−・アイ・カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2017-203771 | ビームによって付着させた構造体へのナノオブジェクトの取付け | 2017年11月16日 | |
| 特表 2017-528735 | 材料特性評価のための断層撮影再構成 | 2017年 9月28日 | |
| 特表 2017-527826 | マイクロトモグラフィにおける容器内で画像化された試料のビーム・ハードニング・アーチファクトの補正 | 2017年 9月21日 | |
| 特開 2017-135375 | 荷電粒子ビーム誘起エッチング | 2017年 8月 3日 | |
| 特開 2017-125837 | 改良された材料付着法 | 2017年 7月20日 | |
| 特表 2017-517120 | スライス・アンド・ビュー試料画像化のための方法および装置 | 2017年 6月22日 | |
| 特開 2017-112099 | 成形絞りによって形成された荷電粒子ビームを最適化する方法 | 2017年 6月22日 | |
| 特開 2017-101316 | 新しい種類の電子ビーム誘起表面処理技法を使用したナノファブリケーション | 2017年 6月 8日 | |
| 特開 2017-69186 | ＣＡＤ支援ＴＥＭ準備レシピ作製 | 2017年 4月 6日 | |
| 特開 2017-26612 | ＴＥＭ／ＳＴＥＭトモグラフィ連続傾斜の取得および位置合せのための基準マーク形成 | 2017年 2月 2日 | |
| 特開 2017-20106 | 高スループット・パターン形成のための適応ビーム電流 | 2017年 1月26日 | |
| 特開 2017-21006 | 予備基準マークの動的作成 | 2017年 1月26日 |
12 件中 1-12 件を表示
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2017-203771 2017-528735 2017-527826 2017-135375 2017-125837 2017-517120 2017-112099 2017-101316 2017-69186 2017-26612 2017-20106 2017-21006
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