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エフ・イ−・アイ・カンパニー
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第2735位 7件
（
2011年：第1648位 14件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第1784位 13件
（
2011年：第2389位 8件）
（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エフ・イ−・アイ・カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2012-255774 | 局所領域ナビゲーション用の高精度ビーム配置 | 2012年12月27日 | |
| 特開 2012-252004 | ＴＥＭ画像化用の薄い試料を作製する方法 | 2012年12月20日 | |
| 特開 2012-178347 | 荷電粒子ビーム・システムにおいて大電流モードと小電流モードとを高速に切り替える方法 | 2012年 9月13日 | |
| 特開 2012-158831 | 材料を付着させる方法 | 2012年 8月23日 | |
| 特開 2012-142269 | 選択可能な複数の粒子放出器を備える荷電粒子源 | 2012年 7月26日 | |
| 特開 2012-104478 | 荷電粒子ビーム・システム用の環境セル | 2012年 5月31日 | |
| 特表 2012-505523 | 局所領域ナビゲーション用の高精度ビーム配置 | 2012年 3月 1日 |
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2012-255774 2012-252004 2012-178347 2012-158831 2012-142269 2012-104478 2012-505523
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