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エフ・イ−・アイ・カンパニー
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第1648位 14件
（
2010年：第1892位 13件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第2389位 8件
（2010年：第3422位 4件）
（ランキング更新日：2025年10月14日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エフ・イ−・アイ・カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4810057 | 集束イオンビームと走査型電子顕微鏡との同軸鏡筒を備えた装置並びに像形成及び処理方法 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4789436 | 磁界レンズ | 2011年10月12日 | |
| 特許 4751017 | システムを制御する方法およびこの方法のステップを実行するための命令を含むコンピュータ可読媒体 | 2011年 8月17日 | |
| 特許 4743788 | 改善されたイオン・カラム動作のための成形スパッタ・シールド | 2011年 8月10日 | |
| 特許 4740422 | 荷電粒子検出器、集束イオンビーム・システム、イオン−電子変換器および正または負に荷電した粒子を検出する方法 | 2011年 8月 3日 | |
| 特許 4730875 | 近接堆積方法とそのシステム | 2011年 7月20日 | |
| 特許 4728553 | 荷電粒子ビームシステムを用いてリソグラフィマスクを修正するための方法と装置 | 2011年 7月20日 | |
| 特許 4616938 | 環境走査電子顕微鏡および検出器 | 2011年 1月19日 |
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4810057 4789436 4751017 4743788 4740422 4730875 4728553 4616938
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