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エフ・イ−・アイ・カンパニー

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エフ・イ−・アイ・カンパニーの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2013-257317	角度が固定されたビームと回転する試料ステージとを使用する薄片製作方法および装置	2013年12月26日
特開 2013-254722	ターゲット位置における異なるビーム・エネルギーで動作する集束荷電粒子カラム	2013年12月19日
特開 2013-251258	プラズマ・イオン源に対する改良された画像化および処理	2013年12月12日
特開 2013-243128	適応走査を有する走査顕微鏡	2013年12月 5日
特表 2013-542563	誘導結合プラズマ・イオン源用のコンパクトなＲＦアンテナ	2013年11月21日
特開 2013-214513	レーザ・アブレーション中に光学構成部品を保護するシステム	2013年10月17日
特開 2013-214502	自動化されたイオン・ビームのアイドリング	2013年10月17日
特表 2013-538334	視覚画像化および赤外画像化を行なう荷電粒子ビーム処理システム	2013年10月10日
特開 2013-197101	光学分光計を使用して誘導結合プラズマ・イオン源を能動的に監視する方法および装置	2013年 9月30日
特開 2013-197594	複数ガス注入システム	2013年 9月30日
特表 2013-536982	低質量種と高質量種の両方を含むイオン源を使用した誘導および試料処理	2013年 9月26日
特表 2013-535800	荷電粒子検出器	2013年 9月12日
特開 2013-179070	ビームシステムのビームカラムを傾動する装置並びにビームシステム	2013年 9月 9日
特表 2013-532883	走査共焦点電子顕微鏡のコントラストの向上	2013年 8月19日
特開 2013-157601	低エネルギー・イオン・ビーム・エッチング	2013年 8月15日

34 件中 1-15 件を表示

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2013-257317 2013-254722 2013-251258 2013-243128 2013-542563 2013-214513 2013-214502 2013-538334 2013-197101 2013-197594 2013-536982 2013-535800 2013-179070 2013-532883 2013-157601

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