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エフ・イ−・アイ・カンパニー
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第2735位 7件
（
2011年：第1648位 14件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第1784位 13件
（
2011年：第2389位 8件）
（ランキング更新日：2025年10月14日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エフ・イ−・アイ・カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5107506 | 欠陥分析器 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5090255 | 原位置でのＳＴＥＭサンプル作製方法 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5086706 | 平面ビュー・サンプル作製 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5053359 | 荷電粒子ビーム器具用の改善された検出器 | 2012年10月17日 | |
| 特許 5048919 | 開口角整形ビーム・システムおよび方法 | 2012年10月17日 | |
| 特許 5046365 | サンプルを顕微処理するためのクラスタ器具 | 2012年10月10日 | |
| 特許 5022557 | ビームシステムのビームカラムを傾動する方法とその装置並びにビームシステム | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5010766 | ナノ粒子を統計的に特徴付ける方法および装置 | 2012年 8月29日 | |
| 特許 4943629 | ターゲット修復用のイオンビーム | 2012年 5月30日 | |
| 特許 4932117 | 基板の断面の画像化装置 | 2012年 5月16日 | |
| 特許 4913599 | 帯電粒子抽出デバイスおよびその設計方法 | 2012年 4月11日 | 共同出願 |
| 特許 4903368 | ダミー銅デプロセッシング | 2012年 3月28日 | |
| 特許 4860097 | 集束イオン・ビームを使用した高抵抗率構造の製造 | 2012年 1月25日 |
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5107506 5090255 5086706 5053359 5048919 5046365 5022557 5010766 4943629 4932117 4913599 4903368 4860097
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