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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第1382位 18件 (2014年: 0件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第2434位 6件 (2014年: 0件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2015-208854 | 化学機械研磨パッド | 2015年11月24日 | |
特開 2015-208856 | 明確な終点検出ウィンドウ付きケミカルメカニカルポリッシングパッド | 2015年11月24日 | |
特開 2015-211224 | 終点検出ウィンドウ付きケミカルメカニカルポリッシングパッド | 2015年11月24日 | |
特開 2015-189001 | 終点検出ウィンドウを有する化学機械研磨パッド | 2015年11月 2日 | |
特開 2015-189002 | 研磨層及びウィンドウを有するケミカルメカニカル研磨パッド | 2015年11月 2日 | |
特開 2015-189003 | 軟質かつコンディショニング可能なウィンドウ付きケミカルメカニカル研磨パッド | 2015年11月 2日 | |
特開 2015-188093 | 基板をケミカルメカニカルポリッシングする方法 | 2015年10月29日 | |
特開 2015-188108 | 化学機械平坦化用の研磨パッド | 2015年10月29日 | |
特開 2015-180519 | 化学機械研磨層を製造する改良された方法 | 2015年10月15日 | |
特開 2015-157353 | 化学機械研磨層を製造する方法 | 2015年 9月 3日 | |
特表 2015-517399 | 放射状流ロータ・ステータ混合機およびポリマー性泡沫を製造する方法 | 2015年 6月22日 | |
特開 2015-109437 | シリコンウェーハを化学機械研磨する方法 | 2015年 6月11日 | |
特開 2015-92610 | 化学機械平坦化用溝付き研磨パッド | 2015年 5月14日 | |
特開 2015-70274 | シリコンウェーハを研磨するための化学機械研磨組成物及び関連する方法 | 2015年 4月13日 | |
特開 2015-63687 | 低欠陥化学機械研磨組成物 | 2015年 4月 9日 |
19 件中 1-15 件を表示
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2015-208854 2015-208856 2015-211224 2015-189001 2015-189002 2015-189003 2015-188093 2015-188108 2015-180519 2015-157353 2015-517399 2015-109437 2015-92610 2015-70274 2015-63687
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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