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ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ シーエムピー ホウルディングス インコーポレイテッド
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第993位 27件
（
2017年：第1441位 19件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第1700位 10件
（
2017年：第1232位 16件）
（ランキング更新日：2025年3月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ シーエムピー ホウルディングス インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2018-202604 | 改善された除去速度および研磨均一性のためのオフセット周方向溝を有するケミカルメカニカル研磨パッド | 2018年12月27日 | |
| 特開 2018-199212 | 脂肪族ポリウレタン光学的終点検出窓及びこれらを含むＣＭＰ研磨パッド | 2018年12月20日 | |
| 特開 2018-188620 | 均一性が改善されたケミカルメカニカルポリッシング層の作製方法 | 2018年11月29日 | |
| 特開 2018-171702 | ケミカルメカニカル研磨パッド | 2018年11月 8日 | |
| 特開 2018-171703 | ケミカルメカニカルプラナリゼーション研磨パッドを溝加工するゲル化低減ツール | 2018年11月 8日 | |
| 特開 2018-168384 | 中空ポリマーアルカリ土類金属酸化物複合材 | 2018年11月 1日 | |
| 特開 2018-170505 | カチオン性粒子含有スラリー及びスピンオン炭素膜のＣＭＰのためのその使用方法 | 2018年11月 1日 | |
| 特開 2018-164075 | タングステンのための化学機械研磨法 | 2018年10月18日 | |
| 特開 2018-157195 | ポリグリコール及びポリグリコール誘導体を使用する、タングステンのための化学機械研磨法 | 2018年10月 4日 | |
| 特開 2018-157220 | 化学機械平坦化用の研磨パッド | 2018年10月 4日 | |
| 特開 2018-129508 | タングステンのための化学機械研磨法 | 2018年 8月16日 | |
| 特開 2018-117150 | 化学機械平坦化用の研磨パッド | 2018年 7月26日 | |
| 特開 2018-111801 | 化学的機械的研磨パッド用の改良された配合物及びそれを用いて製造されるＣＭＰパッド | 2018年 7月19日 | |
| 特開 2018-108636 | 一体型ウィンドウを有する化学機械平坦化（ＣＭＰ）研磨パッドを製造する方法 | 2018年 7月12日 | |
| 特開 2018-99770 | ＣＭＰ研磨パッドの洗浄方法 | 2018年 6月28日 |
27 件中 1-15 件を表示
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2018-202604 2018-199212 2018-188620 2018-171702 2018-171703 2018-168384 2018-170505 2018-164075 2018-157195 2018-157220 2018-129508 2018-117150 2018-111801 2018-108636 2018-99770
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