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ローム　アンド　ハース　エレクトロニック　マテリアルズ　シーエムピー　ホウルディングス　インコーポレイテッド

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ローム　アンド　ハース　エレクトロニック　マテリアルズ　シーエムピー　ホウルディングス　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2020-199630	ローブのある突出構造を有するＣＭＰ研磨パッド	2020年12月17日
特開 2020-186380	欠陥抑制を増強し、かつ、酸性環境において二酸化ケイ素よりも窒化ケイ素を選択的に研磨する、化学機械研磨組成物および方法	2020年11月19日
特開 2020-186381	ケミカルメカニカル研磨組成物、および二酸化ケイ素よりも窒化ケイ素を研磨し、同時に二酸化ケイ素への損傷を抑制する方法	2020年11月19日
特開 2020-174176	コバルトの除去速度が高くコバルトのコロージョンが減少したコバルトのためのケミカルメカニカルポリッシング方法	2020年10月22日
特開 2020-155775	アモルファスシリコンの除去速度を抑制するためのケミカルメカニカル研磨組成物および方法	2020年 9月24日
特開 2020-117707	誘電体基板を研磨するための安定化された砥粒粒子を有する化学機械研磨組成物	2020年 8月 6日
特開 2020-120117	欠陥抑制が増強された酸性研磨組成物および基板を研磨する方法	2020年 8月 6日
特開 2020-99990	ケミカルメカニカルポリッシングパッド及び研磨方法	2020年 7月 2日
特開 2020-75355	ケミカルメカニカルポリッシングパッド及び研磨方法	2020年 5月21日
特開 2020-77856	窒化ケイ素を上回って二酸化ケイ素を研磨するケミカルメカニカルポリッシング組成物及び方法	2020年 5月21日
特開 2020-77860	タングステン用のケミカルメカニカルポリッシング組成物及び方法	2020年 5月21日
特開 2020-68378	タングステン用の化学機械研磨組成物及び方法	2020年 4月30日
特開 2020-10029	タングステンのための中性からアルカリ性のケミカルメカニカルポリッシング組成物及び方法	2020年 1月16日

13 件中 1-13 件を表示

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2020-199630 2020-186380 2020-186381 2020-174176 2020-155775 2020-117707 2020-120117 2020-99990 2020-75355 2020-77856 2020-77860 2020-68378 2020-10029

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