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ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ シーエムピー ホウルディングス インコーポレイテッド
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第1542位 15件
（
2021年：第2162位 10件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第977位 23件
（2021年：第1703位 10件）
（ランキング更新日：2025年3月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ シーエムピー ホウルディングス インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2022-169477 | 研磨組成物及び向上した欠陥防止を有する基材を研磨する方法 | 2022年11月 9日 | |
| 特開 2022-169478 | 研磨組成物及び向上した欠陥低減を有する基材を研磨する方法 | 2022年11月 9日 | |
| 特開 2022-167825 | 表面改質シラン化コロイダルシリカ粒子 | 2022年11月 4日 | |
| 特開 2022-167826 | ケミカルメカニカルポリッシング組成物および方法 | 2022年11月 4日 | |
| 特開 2022-167827 | 表面改質シラン化コロイダルシリカ粒子 | 2022年11月 4日 | |
| 特開 2022-159069 | 研磨レートが向上したＣＭＰ研磨パッド | 2022年10月17日 | |
| 特開 2022-126751 | ケミカルメカニカル研磨パッド | 2022年 8月30日 | |
| 特開 2022-112498 | 高硬度の高多孔性ケミカルメカニカル研磨パッド用配合物及びそれにより製造されたＣＭＰパッド | 2022年 8月 2日 | |
| 特開 2022-112499 | 高平坦化効率を有するケミカルメカニカル研磨パッド用の配合物及びそれを用いて作製されたＣＭＰパッド | 2022年 8月 2日 | |
| 特開 2022-112500 | 高硬度を有する高多孔度ケミカルメカニカル研磨パッド用の調合物及びそれを用いて製造されたＣＭＰパッド | 2022年 8月 2日 | |
| 特開 2022-112501 | 化学機械研磨パッド用配合物及びそれを使用して製造されたＣＭＰパッド | 2022年 8月 2日 | |
| 特開 2022-112502 | ケミカルメカニカルポリッシングパッド及びポリッシング方法 | 2022年 8月 2日 | |
| 特開 2022-109865 | ２以上の終了点検出窓を備えた研磨パッドの製造方法 | 2022年 7月28日 | |
| 特開 2022-104796 | 低波長で透過性を有する窓を備えたＣＭＰ研磨パッドおよびそのような窓において有用な材料 | 2022年 7月11日 | |
| 特開 2022-8199 | 均一な窓を有するＣＭＰ研磨パッド | 2022年 1月13日 |
15 件中 1-15 件を表示
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2022-169477 2022-169478 2022-167825 2022-167826 2022-167827 2022-159069 2022-126751 2022-112498 2022-112499 2022-112500 2022-112501 2022-112502 2022-109865 2022-104796 2022-8199
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