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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第1835位 12件 (2022年:第1542位 15件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第1177位 18件 (2022年:第977位 23件)
(ランキング更新日:2024年11月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2023-178245 | 超膨張ポリマーマイクロスフェアを有するCMPパッド | 2023年12月14日 | |
特開 2023-178246 | 低比重研磨パッドの製造方法 | 2023年12月14日 | |
特開 2023-178247 | 低比重の研磨層を有するCMPパッド | 2023年12月14日 | |
特開 2023-164309 | 化学機械研磨のためのパッド | 2023年11月10日 | |
特開 2023-160747 | 化学機械研磨のための複合パッド | 2023年11月 2日 | |
特開 2023-58442 | ケミカルメカニカルポリッシングパッド及びその製造 | 2023年 4月25日 | |
特開 2023-58443 | ケミカルメカニカルポリッシングパッド及びその製造 | 2023年 4月25日 | |
特開 2023-48132 | ポリシリコンの除去速度を高める方法 | 2023年 4月 6日 | |
特開 2023-41640 | フッ素化ポリ尿素コポリマーパッド | 2023年 3月24日 | |
特開 2023-41641 | 圧縮性非網状ポリ尿素研磨パッド | 2023年 3月24日 | |
特開 2023-41642 | 不均一なフルオロポリマー混合物研磨パッド | 2023年 3月24日 | |
特開 2023-8827 | CMP研磨パッド | 2023年 1月19日 |
12 件中 1-12 件を表示
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2023-178245 2023-178246 2023-178247 2023-164309 2023-160747 2023-58442 2023-58443 2023-48132 2023-41640 2023-41641 2023-41642 2023-8827
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